您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

СТАБИЛИЗАЦИЯ ПЛЕНКИ ОКСИДА ЦИНКА В КОМПОЗИЦИЯХ ДЛЯ УХОДА ЗА ПОЛОСТЬЮ РТА
专利权人:
КОЛГЕЙТ-ПАЛМОЛИВ КОМПАНИ (US)
发明人:
ПИМЕНТА Палома (US),ПИЛЧ Шира (US),МАСТЕРС Джеймс (US),ВОН Бетти (US)
申请号:
RU2012134318/15
公开号:
RU2012134318A
申请日:
2011.01.13
申请国别(地区):
RU
年份:
2014
代理人:
摘要:
1. A composition for oral care, comprising: zinc oxide, embedded in the film an anionic surfactant, an amphoteric surfactant iorganichesky solvent. wherein the anionic surfactant is present in an amount of from 0.1 to 5 wt%, and the organic solvent is present in an amount of from 0.01 to 10 wt% 2... A composition for oral care implement of claim 1, wherein the anionic surfactant is present in an amount of from 1.5 to 2.2 wt.%. 3. A composition for oral care implement of claim 1, wherein the organic solvent is present in an amount of from 2 to 3% .4. A composition for oral care implement of claim 1, wherein the anionic surfactant is sodium lauryl sulfate (SLS) .5. A composition for oral care implement of claim 1, wherein the amphoteric surfactant is a betaine surfactant veschestvo.6. A composition for oral care implement of claim 1, wherein the betaine surfactant is present in an amount of from 0.1 to 5 wt.%. 7. A composition for oral care implement of claim 1, wherein the organic solvent is polietilenglikol.8. A composition for oral care implement according to any one of claims 1-7, wherein the polyethylene glycol is PEG-600.9. A composition for oral care implement of claim 2, wherein the amount of organic solvent is from 2% to 3% and the amphoteric surfactant is a betaine surfactant veschestvo.10. A composition for oral care implement of claim 9, wherein the betaine surfactant is present in an amount from 0.1% to 0.5% .11. comp1. Композиция для ухода за полостью рта, включающая:оксид цинка, внедренный в пленкуанионное поверхностно-активное веществоамфотерное поверхностно-активное вещество иорганический растворительв которой анионное поверхностно-активное вещество присутствует в количестве от 0,1 до 5 мас.%, и органический растворитель присутствует в количестве от 0,01 до 10 мас.%.2. Композиция для ухода за полостью рта по п.1, в которой анионное поверхностно-активное вещество присутствует в количестве от 1,5 до 2,2 мас.%.3. Композиция для ухода за полостью рта по п
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充