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CLEANSING MATERIAL
专利权人:
发明人:
ARAKI, HIDEFUMI,荒木秀文,荒木秀文,KIMURA, TOMOHIKO,木村友彦,木村友彥,NAKAMA, YASUNARI,中间康成,中間康成,WATANABE, KEI,渡边启,渡邊啟,OKAWA, TADASHI,大川直,大川直,IIMURA, TOMOHIRO,饭村智浩,飯村智浩
申请号:
TW098103181
公开号:
TWI457143B
申请日:
2009.02.02
申请国别(地区):
TW
年份:
2014
代理人:
摘要:
Provided is a cleamsing material having both of excellent bubble forming ability and cleansing performance.The cleansing material provided by the present invention contains an organosiloxane derivative salt represented by the following general formula (1) or the following general formula (3), and at least one anionic surface-active agent selected from carboxylate, hydrosulfate, sulfonate or phosphate respectively having a C10~20alkyl group.本發明提供兼備優良起泡與洗淨性之洗淨料。本發明之洗淨料含有:下述通式(1)或下述通式(3)所示之有機矽氧烷衍生物鹽;以及選自各具有碳數10至20之烷基的羧酸鹽、硫酸鹽、磺酸鹽、或磷酸鹽中的1種以上之陰離子性界面活性劑。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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