您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

오존 발생 및 오존 제거가 가능한 플라즈마 촉매 흡착 정화 장치 및 이를 이용한 정화 방법
专利权人:
ECOSET CO.; LTD.
发明人:
CHOI HYUN KOO,최현구,KIM, HYUNG TAE,김형태,KIM, HYO SUN,김효선,KANG, BYUNG KWANG,강병광,NAM, YOUNG YEOL,남영렬
申请号:
KR1020160022328
公开号:
KR1017002690000B1
申请日:
2016.02.25
申请国别(地区):
KR
年份:
2017
代理人:
摘要:
The present invention relates to a plasma purification apparatus purifying polluted gas which comprises: an ozone generating plasma reaction layer having at least one ozone generating plasma reactor which ionizes polluted gas by discharge of plasma and generates ozone gas and an ozone removing plasma reaction layer having a plurality of discharge electrode pins which cause discharge of plasma to remove ozone remaining in gas passing through the ozone generating plasma reaction layer.본 발명은 오염 가스를 정화하는 플라즈마 정화 장치에 관한 것으로, 플라즈마 방전에 의해 오염 가스를 이온화시켜 오존 가스를 생성하는 적어도 하나의 오존 발생용 플라즈마 반응기를 구비하는 오존 발생용 플라즈마 반응층 및 상기 오존 발생용 플라즈마 반응층을 거친 가스 내에 잔존하는 오존을 제거하기 위해 플라즈마 방전을 일으키는 다수의 방전 전극 핀을 구비하는 오존 제거용 플라즈마 반응층을 포함할 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充