Provided are: an implant having improved osseointegration performance； and a method for producing the implant. Provided is an implant (1) comprising a base material (2) made from magnesium or a magnesium alloy and an anodic oxide film (3) formed on the surface of the base material (2), wherein the anodic oxide film (3) has pores having an average diameter of 0.1 to 1 μm at a density of 8000 to 250000 pores per 1 mm2.L'invention concerne un implant présentant une meilleure efficacité d'ostéointégration； et un procédé de fabrication de l'implant. L'invention concerne un implant (1) comprenant un matériau de base (2) constitué de magnésium ou d'un alliage de magnésium et un film d'oxyde anodique (3) formé sur la surface du matériau de base (2), le film d'oxyde anodique (3) comportant des pores ayant un diamètre moyen de 0,1 à 1 µm, à une densité de 8000 à 250 000 pores par 1 mm2.オステオインテグレーション性能を向上することができるインプラントとその製造方法を提供する。マグネシウムまたはマグネシウム合金からなる基材（２）と、該基材（２）の表面に形成された陽極酸化皮膜（３）とを備え、該陽極酸化皮膜（３）が、平均径０．１μｍ～１μｍの気孔を１ｍｍ２中に８０００～２５００００個有するインプラント（１）を提供する。
