The present invention is a photosensitive pixel structure (10) comprising a substrate (15) having a front surface and a back surface, wherein at least one photosensitive diode (12, 12 ') is said of the substrate (15). It is provided on one of the surfaces. A first material layer (30) is provided on at least a part of the back side surface of the substrate (15), and the material layer (30) is provided to increase reflectivity on the back side surface of the substrate. Includes a reflective layer. Furthermore, the present invention describes an array (1) and implant comprising such a photosensitive pixel structure (10), and a method of manufacturing the pixel structure (10). [Selection] Figure 2本発明は、前側表面と裏側表面とを有する基板（１５）を含む感光性画素構造体（１０）であって、少なくとも１つの感光性ダイオード（１２，１２’）が前記基板（１５）の前記表面のうちの一方に設けられている。第１の材料層（３０）が前記基板（１５）の前記裏側表面の上の少なくとも一部に設けられており、前記基板の前記裏側表面における反射性を高めるために、前記材料層（３０）は反射層を含む。更に、本発明は、そのような感光性画素構造体（１０）を含むアレイ（１）及びインプラント、並びに前記画素構造体（１０）を製造する方法について記載する。【選択図】図２
