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Charged particle beam therapy device
专利权人:
住友重機械工業株式会社;SUMITOMO HEAVY IND LTD
发明人:
宮下 拓也,MIYASHITA TAKUYA
申请号:
JP2017070937
公开号:
JP2020096647A
申请日:
2017.03.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam treatment apparatus capable of both improving the penumbra and ensuring the flatness of dose distribution. SOLUTION: The control unit irradiates a charged particle beam on a peripheral portion of an irradiation field 60 defined by the multi-leaf collimator 24 with a higher level than when irradiating the charged particle beam on another portion of the irradiation field 60. Modulate the dose of charged particle beam. Therefore, in the peripheral portion of the irradiation field 60, the dose of the charged particle beam itself is increased due to the modulation, so that the flatness of the dose distribution is reduced although the penumbra is improved, but the charged particle beam in the peripheral portion of the irradiation field is reduced. The dose distribution can be flattened by shielding a part of it with the multi-leaf collimator 24. [Selection diagram] Fig. 4【課題】ペナンブラの改善と、線量分布の平坦度の確保を両立することができる荷電粒子線治療装置を提供する。【解決手段】制御部は、マルチリーフコリメータ24で規定された照射野60の周縁部に荷電粒子線を照射するときは、照射野60における他の部分に荷電粒子線を照射するときよりも高い線量の荷電粒子線に変調する。従って、照射野60の周縁部では、変調によって荷電粒子線自体の線量が高くなっているためペナンブラが改善されながらも線量分布の平坦度が低下するが、照射野の周縁部の荷電粒子線の一部をマルチリーフコリメータ24で遮蔽することで線量分布を平坦化させることができる。【選択図】図4
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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