Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Erzeugung eines Plasmas, mit wenigstens einer ersten Elektrode (3), wenigstens einer von der ersten Elektrode (3) beabstandet angeordneten zweiten Elektrode (5), einer Spannungsquelle (7), die mit wenigstens einer Elektrode (3,59, ausgewählt aus der ersten Elektrode (3) und der zweiten Elektrode (5), derart verbunden ist, dass eine Potentialdifferenz zwischen der wenigstens einen ersten Elektrode (3) und der wenigstens einen zweiten Elektrode (5) durch die Spannungsquelle (7) erzeugbar ist, wobei die wenigstens eine erste Elektrode (3) und die wenigstens eine zweite Elektrode (5) wenigstens einen Entladungspfad (9) für eine elektrische Entladung in einem Entladungsbereich (11) zwischen der wenigstens einen ersten Elektrode (3) und der wenigstens einen zweiten Elektrode (5) definieren. Dabei ist eine Magnetfeldeinrichtung (15) vorgesehen, die eingerichtet und relativ zu der wenigstens einen ersten Elektrode (3) und der wenigstens einen zweiten Elektrode (5) angeordnet ist, um in dem Entladungsbereich (11) ein Magnetfeld bereitzustellen, sodass ein Magnetfeldvektor (B) des Magnetfelds schräg zu dem Entladungspfad (9) orientiert ist.The invention relates to an apparatus (1) for producing a plasma, having at least one first electrode (3), at least one second electrode (5), which is arranged at a distance from the first electrode (3), a voltage source (7), which is connected to at least one electrode (3, 59) selected from the first electrode (3) and the second electrode (5) such that a potential difference between the at least one first electrode (3) and the at least one second electrode (5) can be produced by the voltage source (7), wherein the at least one first electrode (3) and the at least one second electrode (5) define at least one discharge path (9) for an electrical discharge in a discharge region (11) between the at least one first electrode (3) and the at least one second electrode (5). In this case, a magnetic f
