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N-保護サルタン誘導体の製造方法
专利权人:
TOKUYAMA CORP
发明人:
SEKI MASAHIKO,関 雅彦,TANAKA KENJI,田中 健次
申请号:
JP2017079226
公开号:
JP2018154611A
申请日:
2017.04.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for efficiently producing intermediates of candesartan cilexetil and olmesartan.SOLUTION: The present invention provides a method for producing an N-protected sartan by causing an N-(4-bromobenzyl) imidazole derivative and an N-protected-5-phenyltetrazole derivative to react, in the presence of a ruthenium-containing metal catalyst, with an organic acid and an alkali metal carbonate.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2019,JPO&INPIT【課題】カンデサルタンシ、オルメサルタンの中間体を効率よく製造する方法の提供【解決手段】N-(4-ブロモベンジル)イミダゾール誘導体と、N-保護-5-フェニルテトラゾール誘導体とを、ルテニウムを含む金属触媒の存在下に、有機酸及び炭酸アルカリ金属塩と反応させることによるN-保護サルタンの製造方法。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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