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一种促进黄瓜在亚适宜温光环境中生长的组合物
专利权人:
中国农业科学院蔬菜花卉研究所
发明人:
李衍素,于贤昌,黄毅,贺超兴,闫妍
申请号:
CN201611000280.1
公开号:
CN106561650A
申请日:
2016.11.14
申请国别(地区):
中国
年份:
2017
代理人:
张琳琳
摘要:
本发明公开了一种促进黄瓜在亚适宜温光环境中生长的组合物,所述的组合物由萘乙酸钠和聚天冬门冬氨酸组成,按重量配比计算,萘乙酸钠:聚天冬门冬氨酸为1:10‑12;所述组合物采用水溶液,其中,每株黄瓜施加2mg·株‑1萘乙酸钠,20‑24mg·株‑1聚天冬门冬氨酸。在黄瓜幼苗长至两叶一心时进行定植,定植后采用根部滴灌。本发明所述的组合物能够有效防御黄瓜在亚适宜温光环境危害,具有促进生长、增强光合作用、增加产量的效果。同时采用智能滴灌装置进行滴灌,与现有技术相比,合理的肥水比例的滴灌,施肥均匀,可控,提高光合效率,达到有效利用资源,提高黄瓜产量的目的。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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