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一种促进黄瓜在亚适宜温光环境中生长的调节剂
专利权人:
中国农业科学院蔬菜花卉研究所
发明人:
于贤昌,李衍素,黄毅,贺超兴,闫妍
申请号:
CN201610999516.0
公开号:
CN106689129A
申请日:
2016.11.14
申请国别(地区):
中国
年份:
2017
代理人:
张琳琳
摘要:
本发明公开了一种促进黄瓜在亚适宜温光环境中生长的调节剂,所述的调节剂由萘乙酸钠、聚天冬门冬氨酸、复硝酚钠组成,按重量配比计算,萘乙酸钠:聚天冬门冬氨酸为:复硝酚钠为1:10‑11:4‑5。所述调节剂采用水溶液,在黄瓜幼苗长至两叶一心时进行定植,定植后采用根部滴灌处理。本发明所述的调节剂能够促进植物生长、增强根系活力,提高光合速率,进而达到增加产量的效果。同时采用智能滴灌装置进行滴灌,与现有技术相比,根据进行合理肥水比例的滴灌,提高光合效率,充分利用资源,进而提高黄瓜产量。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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