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一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用
专利权人:
广东工业大学
发明人:
籍少敏,刘文超,梁辉,贺佳,霍延平
申请号:
CN201910708408.7
公开号:
CN110511236A
申请日:
2019.01.08
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明公开了一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用。氟硼吡咯光敏剂为具有式(I)所示结构的化合物。其制备方法包括:S1.对羟基苯甲醛与1,6‑二溴己烷发生反应;S2.保护气氛条件下,将具有式(IV)结构的化合物与2,4‑二甲基吡咯发生反应;S3.具有式(III)结构的化合物与I2/HIO3发生碘代反应;S4.具有式(II)所示结构的化合物与2‑噻吩甲醛发生Knoevenagel缩合反应,得到式(I)结构的化合物。该化合物具有在光动力治疗药物上的应用。本发明单线态氧量子产率达到了为78%,其在低功率光源激发下,能够高效敏化空气中的三线态氧原子产生大量单线态氧。其中,式(I)、(II)、(III)和(IV)的化合物结构如下:
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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