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Hydroponic growing device
专利权人:
发明人:
야노 히로시,정 우현
申请号:
KR1020177030421
公开号:
KR1020457280000B1
申请日:
2016.05.13
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要:
The hydroponic cultivation apparatus 100 includes a cultivation room basement part 67 containing an underground space where the basement part 1A of the plant 1 grows so that the ground part 1B of the plant 1 is separated from the growing ground space. And an underground temperature adjusting unit 2478 for adjusting the temperature of the atmosphere in the underground space, and a control unit 50 for controlling the underground temperature adjusting unit 2478, wherein the control unit 50 has a ground portion at which the plant 1 is grown. When the planting time of the plant 1 is judged by the dormancy determining unit to determine whether the leaf of (1B) is withered or dormant, and the planting time of the plant 1 is determined that the leaf of the ground part 1B of the plant 1 is withered or dormant. The temperature control part 2478 is equipped with the temperature control part which adjusts the temperature of the underground space atmosphere so that the germination of the plant 1 may be accelerated stimulated.수경 재배 장치(100)는, 식물(1)의 지상부(1B)가 성장하는 지상 공간으로부터 분리되도록, 식물(1)의 지하부(1A)가 성장하는 지하 공간을 내포하는 재배실 지하부(67)와, 지하 공간의 분위기의 온도를 조정하는 지하 온도 조정부(2478)와, 지하 온도 조정부(2478)를 제어하는 제어부(50)를 구비하고, 제어부(50)는, 식물(1)의 재배 시기가 지상부(1B)의 잎이 시든 휴면기인지의 여부를 판정하는 휴면 판정부와, 휴면 판정부에 의해 식물(1)의 재배 시기가 식물(1)의 지상부(1B)의 잎이 시든 휴면기라고 판정된 경우에, 식물(1)의 맹아가 촉진되도록, 지하 온도 조정부(2478)에 지하 공간 분위기의 온도를 조정시키는 온도 제어부를 포함하고 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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