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一种芍药利用自然低温促成栽培方法
专利权人:
赤峰学院
发明人:
赵雪梅,梁晨霞,于晓玉
申请号:
CN201510744801.3
公开号:
CN105325153A
申请日:
2015.10.31
申请国别(地区):
中国
年份:
2016
代理人:
摘要:
本发明涉及一种芍药利用自然低温促成栽培方法,包括以下步骤:将芍药苗9月到10月种植于地形平坦,排水良好的露地中,期间平均温度为20-8℃;11月中旬到12月中旬,平均温度-15℃到-25℃,冻土层厚度为5-15cm时,将芍药苗于露地起苗,晾置5-7d;使用生根粉和赤霉素处理组合溶液处理芍药根部,其中所选用生根粉浓度为0-150mg/L,赤霉素浓度为0-300mg/L;将激素处理后的芍药苗植入花盆中,将盆栽移入温室;将植入花盆的芍药苗在温室中培养,辅以补光、温湿度调节措施。本发明使用激素处理结合自然低温打破芍药休眠状态,能够促进芍药提前开花,为芍药盆花促成栽培提供了新途径,且该方法对场地没有限制,避免租用冷库,降低了成本,节能环保。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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