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포스포릴콜린 유사기 함유 화합물 및 이를 포함하는 화장료 조성물
专利权人:
GENIC CO.; LTD.
发明人:
KIM, JONG CHULKR,김종철,YU, JEONG JUNKR,유정준,OH, YOUNG JUNKR,오영준,JUNG, SUK KYUNKR,정석균,YANG, JIN AKR,양진아
申请号:
KR1020140143710
公开号:
KR1020160047683A
申请日:
2014.10.22
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention relates to a compound containing a phosphorylcholine-like group and a cosmetic composition comprising the same and, more specifically, to a compound containing a phosphorylcholine-like group represented by chemical formula (1), and to a cosmetic composition comprising the same. In the chemical formula (1), Z is selected from the group containing hydrogen, a hydroxyl group, a linear or branched C_4-20 alkyl group, a linear or branched C_4-20 alkene group, and a linear or branched C_1-20 alkoxy group X_1, X_2, and X_3 are each independently selected from the group containing hydrogen, a C_1-20 alkyl group, a C_1-20 alkoxy group, and halogen and R_1 and R_2 are each independently selected from the group containing hydrogen, a hydroxyl group, and a C_1-20 alkyl group. According to the present invention, the compound containing the phosphorylcholine-like group may improve a skin barrier function and relieve stimulus of skin.COPYRIGHT KIPO 2016본 발명은 포스포릴콜린 유사기 함유 화합물 및 이를 포함하는 화장료 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하기 화학식 (1)로 표현되는 포스포릴콜린 유사기 함유 화합물 및 이를 포함하는 화장료 조성물에 관한 것이다. 화학식(1)상기 화학식(1)에서, Z는 수소, 히드록시, 선형 또는 분지형 C4-20알킬, C4-20알켄 및 C1-20알콕시로 이루어진 그룹으로부터 선택되고,X1, X2, 및 X3은 각각 독립적으로 수소, C1-20알킬, C1-20알콕시 및 할로겐으로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R1 및 R2은 각각 독립적으로 수소, 히드록시 및 C1-20알킬로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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