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美爪料
专利权人:
株式会社コーセー
发明人:
奥山 雅樹,平 昌宏,藤城 博,西村 瑞穂
申请号:
JP2007226446
公开号:
JP5431660B2
申请日:
2007.08.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manicure having excellent light resistance and good makeup durability and luster.SOLUTION: The manicure contains the following components (A) and (B). (A) An amino-substituted hydroxybenzophenone compound expressed by general formula (I) (in the formula, R1 and R2 are each a hydrogen atom, a 1-12C alkyl group or a 5-membered ring or 6-membered ring formed together with a nitrogen atom bonded thereto and R3 is a hydrogen atom, a 1-12C alkyl group or a 3-6C cycloalkyl group) and (B) a film-forming agent.COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT【課題】耐光性に優れるとともに、良好な化粧持ちおよびつや感を備えた美爪料を提供すること。【解決手段】次の成分(A)および(B):(A)次の一般式(I)(式中、R1及びR2はそれぞれ、水素原子、炭素数1~12のアルキル基、またはこれらと結合している窒素原子と一緒になって形成される5員環若しくは6員環を示し、R3は、水素原子、炭素数1~12のアルキル基または炭素数3~6のシクロアルキル基を示す)で表されるアミノ置換ヒドロキシベンゾフェノン化合物(B)皮膜形成剤を含有することを特徴とする美爪料である。【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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