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금속 동위원소 표지를 위한 헤테로사이클릭 유도체 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염 및 이의 제조방법
专利权人:
KOREA ATOMIC ENERGY RESEARCH INSTITUTE
发明人:
CHOI, KANG HYUK,최강혁,CHOI, SUN JU,최선주,PARK, UL JAE,박울재,PARK, YOUNG WOOK,박영욱
申请号:
KR1020110058263
公开号:
KR1020120138865A
申请日:
2011.06.16
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要:
PURPOSE: A heterocyclic derivative for labeling metal isotopes is provided to enhance labeling efficiency and to enable effectively radioimmunotherapy.CONSTITUTION: A heterocyclic derivative is denoted by chemical formula 1. A method for preparing the compound of chemical formula 1 comprises: a step of reacting a compound of chemical formula 2 in a base and an organic solvent to prepare a compound of chemical formula 3 a step of reacting the compound of chemical formula 3 with NH_3 in the organic solvent to prepare a compound of chemical formula 4 and a step of reacting the compound in the organic solvent to prepare a compound of chemical formula 5.COPYRIGHT KIPO 2013[Reference numerals] (A1) Step 1 (A10) Step 10 (A2) Step 2 (A3) Step 3 (A4) Step 4 (A5) Step 5 (A6) Step 6 (A7) Step 7 (A8) Step 8 (A9) Step 9본 발명은 금속 동위원소 표지를 위한 헤테로사이클릭 유도체 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 헤테로사이클릭 유도체 또는 이의 약학적으로 허용가능한 염은 헤테로사이클릭 구조가 화합물 자체의 구조를 고정시키는 역할을 하여 금속성 동위원소인 루테슘 등과의 배위 효과를 증진시키고 금속동위원소의 표지 효율을 높이며 안정성 또한 상승시키므로 본 발명에 따른 화합물을 다양한 항체에 도입하여 방사성 면역 치료에 효과적으로 사용할 수 있을 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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