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APPARATUS AND PROCESS FOR FOCUSED GAS PHASE APPLICATION OF BIOCIDE
专利权人:
사브레 인텔렉츄얼 프라퍼티 홀딩스 엘엘씨
发明人:
메이슨 존 와이.
申请号:
KR1020157028111
公开号:
KR1020150126045A
申请日:
2014.03.13
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention provides a method of oxidizing, sanitizing, disinfecting, and / or sterilizing an object. The method comprising: discharging a gaseous stream of a gas mixture comprising 50 to 30,000 ppm v of chlorine dioxide from a gas source at a rate of 25 to 900 ft / sec; And contacting the gas stream with the object. There is also provided an apparatus for oxidizing, sterilizing, disinfecting, and / or sterilizing an object. The apparatus comprises: a chlorine dioxide inlet configured to draw in a gas mixture comprising 50 to 30,000 ppm v of chlorine dioxide; And a gas source configured to discharge the gaseous stream of the gas mixture at a rate of 50 to 900 ft / sec.본 발명은 대상물을 산화(oxidizing), 살균(sanitizing), 소독(disinfecting), 및/또는 멸균(sterilizing) 처리하는 방법을 제공한다. 상기 방법은 50 내지 30,000 ppmv 이산화염소를 포함하는 기체 혼합물의 기체 스트림을, 25 내지 900 ft/sec의 속도로 기체 소스(gas source)로부터 배출시키는 단계; 및 상기 기체 스트림을 상기 대상물과 접촉시키는 단계를 포함한다. 또한, 대상물을 산화, 살균, 소독, 및/또는 멸균 처리하기 위한 장치가 제공된다. 상기 장치는, 50 내지 30,000 ppmv 이산화염소를 포함하는 기체 혼합물을 흡기하도록 구성된 이산화염소 인렛(inlet); 및 상기 기체 혼합물의 기체 스트림을 50 내지 900 ft/sec의 속도로 배출하도록 구성된 기체 소스를 포함한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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