软场层析成像系统和方法

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专利权人:

通用电气公司

发明人:

谭伟,亚历山大.S.罗斯,维拉.V.L.R.兰格巨,牛冉,吴之林,高卫华

申请号：

CN201010612087.X

公开号：

CN102540276B

申请日:

2010.12.29

申请国别(地区):

CN

年份:

2014

代理人:

摘要：

本发明揭示一种软场层析成像系统和方法，该方法包括计算被测对象内一个或多个特性的分布，该计算被测对象内一个或多个特性分布的方法包括定义被测对象的第一网格，该网格包括若干个节点和单元。向被测对象施加激励，计算被测对象对所施加的激励的计算响应，取得一个对应于该激励的参考响应，根据所述第一网格、计算响应和参考响应计算该被测对象内一个或多个特性的分布，更新所述第一网格里面的至少部分节点得到一个更新的网格，该更新的网格中节点的连接关系与第一网格中的相同。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/