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電気的に遮蔽されたウェハ貫通インターコネクト
专利权人:
コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェ
发明人:
スティードマン,ロヘル,フォグトマイアー,ゲレオン,ドルシャイド,ラルフ
申请号:
JP2008527552
公开号:
JP5357543B2
申请日:
2006.08.15
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
Through-Wafer Interconnections allow for the usage of cost-effective substrates for detector chips. According to an exemplary embodiment of the present invention, detecting element for application in an examination apparatus may be provided, comprising a wafer with a sensitive region and a coaxial through-wafer interconnect structure. This may reduce the susceptibility of the interconnection by providing an effective shielding.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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