AKADEMIA GÓRNICZO-HUTNICZA IM. STANISŁAWA STASZICA W KRAKOWIE
发明人:
ANTONI CIEŚLA,WOJCIECH KRASZEWSKI,MIKOŁAJ SKOWRON,PRZEMYSŁAW SYREK
申请号：
PL402196
公开号：
PL402196A1
申请日:
2012.12.21
申请国别(地区):
PL
年份:
2014
代理人:
摘要：
the subject of the invention is a magnetic field to magnetoterapii applicators with the local limit value induction magnetic field, in particular to the treatment of the musculoskeletal system, while maintaining a safe value of the magnetic field in the protected oh bszarze. the applicators has at least two implanters (a1,...an identical set of three parameters) of values and their different spatial location defined by a set of five parameters: the parameter of the applicator (a1,..., an) with respect to the axis x of the applicator, the parameter (a1,..., an) relative to the y axis, three the parameters determining the position of the geometric centre of the applicator (a1,...an) relative to each other, in the direction of the current flow and (t), where each individual applicators (a1,..., an) is connected via supply lines (pz1,..., pzn) with autonomous source of pr\u0105dowych of appropriately selected using methods of optimisation parameters defined as values of a sinusoidal power amplitude and initial phase of the sinusoidal, with autonomous sources: cooperate with u k\u0142adem supply (3) generating power for each of the relevant movements, applicators (a1,..., an), which in turn cooperates with a computer (2) responsible for optimising these parameters of power supply system (3).Przedmiotem wynalazku jest zestaw aplikatorów pola magnetycznego do magnetoterapii z systemem lokalnego ograniczenia wartości indukcji pola magnetycznego w szczególności do terapii układu kostno-szkieletowego, przy jednoczesnym zachowaniu bezpiecznej wartości pola magnetycznego w chronionym obszarze. Zestaw aplikatorów posiada co najmniej dwa aplikatory (A1, ..., An) o jednakowych wartościach zestawu trzech parametrów oraz swoim różnym usytuowaniu przestrzennym zdefiniowanym przez zestaw pięciu parametrów: parametr usytuowania danego aplikatora (A1, ..., An) względem osi x, parametr usytuowania danego aplikatora (A1, ..., An) względem osi y, trzy parametry określające położenie środka
