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化合物、包含所述化合物的共聚物和包含所述共聚物的抗蚀剂保护膜组合物
- 专利权人:
- 锦湖石油化学株式会社
- 发明人:
- 朱炫相,朴柱铉,韩俊熙,任铉淳
- 申请号：
- CN201110175221.9
- 公开号：
- CN102311344B
- 申请日:
- 2011.06.22
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 过晓东
- 摘要：
- 本发明提供下式(1)表示的化合物，包括下式(1-a)表示的重复单元的共聚物和包含所述共聚物的抗蚀剂保护膜组合物。当使用所述抗蚀剂保护膜组合物时，所得到的抗蚀剂保护膜具有充分的透光率，不易于与抗蚀剂膜混杂，具有合适的亲水性或疏水性，不表现出图案形状变差的现象，易溶解于碱性显影剂溶液，并减少在浸没式或干式曝光过程的过程中各种缺陷的出现。
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其中，在在式(1)和式(1-a)中，R11、R21和R22每个独立地表示氢原子、卤原子等；R1表示烷基、杂烷基等；R2表示氢原子或烷基；并且Q1和Q2每个独立地表示选自以下的任意一种：氢原子和卤原子。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
