化合物、包含所述化合物的共聚物和包含所述共聚物的抗蚀剂保护膜组合物

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专利权人:

锦湖石油化学株式会社

发明人:

朱炫相,朴柱铉,韩俊熙,任铉淳

申请号：

CN201110175221.9

公开号：

CN102311344B

申请日:

2011.06.22

申请国别(地区):

中国

年份:

2014

代理人:

过晓东

摘要：

本发明提供下式(1)表示的化合物，包括下式(1-a)表示的重复单元的共聚物和包含所述共聚物的抗蚀剂保护膜组合物。当使用所述抗蚀剂保护膜组合物时，所得到的抗蚀剂保护膜具有充分的透光率，不易于与抗蚀剂膜混杂，具有合适的亲水性或疏水性，不表现出图案形状变差的现象，易溶解于碱性显影剂溶液，并减少在浸没式或干式曝光过程的过程中各种缺陷的出现。其中，在在式(1)和式(1-a)中，R₁₁、R₂₁和R₂₂每个独立地表示氢原子、卤原子等；R₁表示烷基、杂烷基等；R₂表示氢原子或烷基；并且Q₁和Q₂每个独立地表示选自以下的任意一种：氢原子和卤原子。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/