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圧縮器と組み合わせて大型且つ高エネルギーのレーザービームをサンプリングする装置
- 专利权人:
- タレス
- 发明人:
- ロー，セバスチャン,ジュグラ，ポール,リューロー，フランソワ
- 申请号：
- JP20160536663
- 公开号：
- JP2017504788(A)
- 申请日:
- 2014.12.02
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、典型的には１Ｊよりも大きい高エネルギー且つ大型の、すなわち典型的には直径が１ｃｍよりも大きいパルスレーザービームのサンプリングの分野に適用される。本発明は、高エネルギー且つ大直径のパルスレーザービームをサンプリングすべく、圧縮器（３）と組み合わせた装置において、この圧縮器の上流に、− パルスレーザービームのＴ％（Ｔは９０よりも大きい）を透過可能、且つパルスレーザービームの（１−Ｔ）％を反射可能（反射されたビームをサンプルビームと呼ぶ）なサンプリングジオプタ（４４）を備えたサンプル取得装置と、− サンプルビームのサイズを縮小可能な無限焦点（４２）とを含み、− 圧縮器が、決定された有効開口、および縮小されたサンプルビームをこの有効開口に再注入する装置（４５）を有しているこ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
