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用于清空包含流体的管状元件的方法和设备
专利权人:
IMV技术公司
发明人:
E·施密特,A·L·范卡佩尔
申请号:
CN201080035869.X
公开号:
CN102481184A
申请日:
2010.07.28
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
本发明涉及用于清空包含了流体(5)的管状元件(1)的方法和设备,所述管状元件(1)在该管状元件(1)的至少一个端部(4)处被封闭,所述方法的特征在于,其包括如下步骤:在横向于所述管状元件(1)的纵向轴线的方向上穿过所述管状元件(1)的壁部(2)插入针头(6),所述针头(6)包括截头端部(7),所述截头端部(7)的形状能够钻入所述管状元件(1)的壁部(2),所述针头(6)被插入为直穿所述管状元件(1),并且被定位为使得所述截头端部(7)位于所述壁部的一个壁部(2)处,从而在所述针头(6)的截头端部(7)和所述管状元件(1)的对应壁部(2)之间形成流体(5)的排放通道;并且通过将推送构件(8)从与封闭端部相对的端部插入到所述管状元件(1)内,从而排出所述管状元件(1)中包含的流体(5)。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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