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毛髪化粧料
专利权人:
SHISEIDO CO LTD
发明人:
KURASHIMA KO,倉島 巧,FUJIYAMA TAIZO,藤山 泰三,KATAYAMA MIKA,片山 美佳,SHIMIZU HIDEKI,清水 秀樹
申请号:
JP2012005771
公开号:
JP2012162519A
申请日:
2012.01.16
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide hair cosmetics excellent in straightness effect immediately after coated to hair, and excellent in stability and usability (non-stickiness, flexibility and hair tip smoothness).SOLUTION: The hair cosmetics contain: (a) a block polymer in which two or more blocks composed of monomers having vinyl system functional groups are coupled to each other via a connecting monomer having a radical copolymer vinyl functional system group and an oxazoline system functional group (non-radical copolymer functional group), and which contains a monomer having a specific vinyl system functional group in at least one block of the two or more blocks (b) water and/or a low-grade alcohol solution (c) a thickener and (d) silicone. It is preferable that the block coupled to one connecting monomer exhibits hydrophilicity, and the block coupled to the other exhibits hydrophobicity. Furthermore, it is preferable that (a) component:(d) component=1:0.1 to 1: 40 (mass ratio).COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】毛髪への塗布直後のストレート効果に優れ、かつ、安定性、使用性(べたつきのなさ、柔軟性、毛先の滑らかさ)に優れる毛髪化粧料を提供する。【解決手段】(a)ビニル系官能基を有するモノマーからなる2以上のブロックが、ラジカル重合性ビニル系官能基とオキサゾリン系官能基(非ラジカル重合性官能基)とを有する連結モノマーを介して結合されてなり、上記2以上のブロックの少なくとも1つのブロック中に特定のビニル系官能基を有するモノマーを含んでなるブロックポリマーと、(b)水および/または低級アルコール溶媒と、(c)増粘剤と、(d)シリコーンを含有する毛髪化粧料。上記連結モノマーの一方に結合するブロックが親水性を示し、他方に結合するブロックが疎水性を示すものが好ましい。また(a)成分:(d)成分=1:0.1~1:40(質量比)が好ましい。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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