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含氮雜環化合物
专利权人:
KYOWA HAKKO KIRIN CO.; LTD.
发明人:
UCHIDA, KENJI,内田贤司,內田賢司,KANAI, TOSHIMI,金井寿美,金井壽美,HOMMA, MASAKAZU,本间正一,本間正一,ARATAKE, SEIJI,荒武诚士,荒武誠士,ISHIMORI, TATSUYA,石森达也,石森達也
申请号:
TW102143739
公开号:
TW201439066A
申请日:
2013.11.29
申请国别(地区):
TW
年份:
2014
代理人:
摘要:
This nitrogen-containing heterocyclic compound or pharmaceutically acceptable salt thereof is, for example, useful as a prophylactic and/or therapeutic agent and the like for dermatosis and the like. The present invention provides a heterocyclic compound represented by general formula (I) or a pharmaceutically acceptable salt and the like thereof that is, for example, useful as a prophylactic and/or therapeutic agent for dermatosis and the like. [In the formula, for example, XA is CH or the like, R1 is a cycloalkyl or the like optionally having substitution groups, L is a bond or the like, YA is -NH- or the like, R2 is a hydrogen atom or the like, R3A is the formula (R3A-1) (where R3 is a hydroxyl, or the like), and R4A is the formula (R4A-1) (where R4 and R5 are the same or different hydrogen atoms, or the like).]本發明之含氮雜環化合物或其藥學上容許之鹽例如作為皮膚疾病等之預防及/或治療劑等是有用的。根據本發明,提供一種可用作皮膚疾病等之預防及/或治療劑之下述通式(I)所表示之雜環化合物或其藥學上容許之鹽等[式中,XA表示CH等,R1表示亦可具有取代基之環烷基等,L表示鍵等,YA表示-NH-等,R2表示氫原子等,R3A表示下述式(R3A-1)(式中,R3表示羥基等)等,R4A表示下述式(R4A-1)(式中,R4及R5分別相同或不同,表示氫原子等)等]。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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