フォトレジスト表面および金属表面処理の同時親水化：方法、システム、および製品
- 专利权人:
- オントス イクイップメント システムズ インコーポレイテッド
- 发明人:
- シュルツ エリック
- 申请号：
- JP20170544843
- 公开号：
- JP2018503266(A)
- 申请日:
- 2015.11.12
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 還元性化学大気プラズマの下流の活性残渣を使用して、簡単な装置で、プレメッキ表面処理に複数の利点を提供するための方法およびシステム。大気プラズマの下流の活性種が基板表面に衝突するため、３つの重要な表面処理プロセスを同時に行うことができる：１．有機残渣をメッキベースの表面から除去する。２．メッキベースの表面から酸化を除去する。３．基板上の全ての表面を下流の活性残渣によって高度に活性化し、それにより、後続のメッキ作業のための高い濡れ性の表面を生成する。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
