An apparatus for personal aesthetic skin treatment by RF voltage. The apparatus includes an RF voltage supply and a disposable patch with an assembly of individual electrodes operative to contact segments of the skin and deliver to each contact RF voltage. The RF voltage may be supplied to each of the electrodes according to a predetermined experimentally established skin treatment protocol. The treatment RF current generated by the applied RF voltage heats the skin and is applied intermittently to different electrodes being in contact with the skin in an order and duration sufficient to cause the desired skin effect and enable proper cooling of earlier treated skin segments. The selected protocol ensures safe non-ablative skin treatment parameters.ＲＦ電圧による個人エステティック皮膚トリートメント用装置である。本装置は、ＲＦ電圧源と、個別電極のアセンブリを有する使い捨て可能パッチとを含む。電極は、皮膚セグメントと接触するべく、かつ、当該電極と接触している各皮膚セグメントにＲＦ電圧を送達するべく動作可能である。ＲＦ電圧は、予め定められる実験的に確立された皮膚トリートメントプロトコルに応じて各電極に供給することができる。ＲＦ電圧適用によって生じるトリートメントＲＦ電流は、所望の表皮効果を引き起こすのに十分な、かつ初期にトリートメントを受けた皮膚セグメントの適切な冷却を可能とするのに十分な順序及び継続時間で皮膚を加熱し、当該皮膚と接触する異なる電極に対して断続的に適用される。選択されるプロトコルによって、安全な非アブレーション的皮膚トリートメントパラメータが確保される。
