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一种低氯高纯羧乙基锗倍半氧化物的制备方法
专利权人:
云南临沧鑫圆锗业股份有限公司
发明人:
普世坤,谢天敏,朱知国,张东晟,许金斌,李庭安,吴王昌,李正美,赵娟,李长林,林作亮
申请号:
CN202010374072.8
公开号:
CN111574553A
申请日:
2020.05.06
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明涉及有机化合物制备技术领域,具体公开了一种低氯高纯羧乙基锗倍半氧化物的制备方法,包括将羧乙基锗倍半氧化物进行至少一次重结晶操作,具体步骤包括加热、溶解、冷却、结晶、过滤、洗涤、烘干,所述溶解过程中所使用的溶剂为去离子水、去离子水和食品级丙酮的混合物、去离子水和食品级乙醇的混合物中的一种,其中去离子水和食品级丙酮的体积比为1:1‑1.5;去离子水和食品级乙醇的体积比为1:0.5‑1.0,实施本发明的技术方案,使羧乙基锗倍半氧化物中的杂质成分,如氯离子、无机二氧化锗等的含量得到大幅降低,从而提高了羧乙基锗倍半氧化物的质量,使其纯度达到99.99%以上,氯离子含量小于50ug/g,满足了特殊客户用于生产化妆品、食品等方面的特殊要求。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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