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BASE MAKEUP COSMETIC AND METHOD FOR PRODUCING SAME
专利权人:
후지필름 가부시키가이샤
发明人:
나카무라 가즈히로,이시바시 히데야스
申请号:
KR1020127021208
公开号:
KR1016617950000B1
申请日:
2011.01.21
申请国别(地区):
KR
年份:
2016
代理人:
摘要:
(C * 45) and (∠h * 45) satisfy the relational expressions represented by the following formulas (1) and (2) and the color angle of the cosmetic is in the range of 40 ° to 80 °, ) Each have a surface of the coating layer obtained by applying the base makeup cosmetic material as a light receiving surface and the saturation of the reflected light in the regular reflection direction (45 ° direction) when the light is incident in the -45 ° direction with respect to the light receiving surface C * 45) and a hue angle (? H * 45), and (C * 0) and (? H * 0) represent light diffusing directions (C * 0) and hue angle (? H * 0) of the reflected light in the direction (0 占 direction). (C * 0) - (C * 45)? 2.0 (2): (∠h * 0) - (∠h * 45) ≤ 1.5.하기 식 (1) 및 하기 식 (2) 로 나타내는 관계식을 만족하고, 또한, 화장료의 색상각이 40°∼ 80°의 범위인 베이스 메이크업용 화장료이며, (C*45) 및 (∠h*45) 는 각각, 상기 베이스 메이크업용 화장료를 도포하여 얻어진 도포층 표면을 수광면으로 하고, 그 수광면에 대해 -45°방향에서 광을 입사했을 때, 정반사 방향 (45°방향) 의 반사광의 채도 (C*45) 및 색상각 (∠h*45) 을 나타내고, (C*0) 및 (∠h*0) 은 각각, 그 수광면에 대해 -45°방향에서 광을 입사했을 때, 확산 반사 방향 (0°방향) 의 반사광의 채도 (C*0) 및 색상각 (∠h*0) 을 나타낸다.식 (1) : (C*0) - (C*45) ≤ 2.0 식 (2) : (∠h*0) - (∠h*45) ≤ 1.5.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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