您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

CURABLE COMPOSITION FOR USE IN A HIGH TEMPERATURE LITHOGRAPHY-BASED PHOTOPOLYMERIZATION PROCESS AND METHOD OF PRODUCING CROSSLINKED POLYMERS THEREFROM
专利权人:
Inc.;Align Technology
发明人:
Robert LISKA,Christian GORSCHE,György HARAKALY,Markus KURY,Jürgen STAMPFL,Peter DORFINGER,Yan CHEN,Chunhua LI,Srinivas KAZA
申请号:
US16653018
公开号:
US20200040130A1
申请日:
2019.10.15
申请国别(地区):
US
年份:
2020
代理人:
摘要:
Provided herein are curable compositions for use in a high temperature lithography-based photopolymerization process, a method of producing crosslinked polymers using said curable compositions, crosslinked polymers thus produced, and orthodontic appliances comprising the crosslinked polymers.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充