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一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法
专利权人:
福州大学
发明人:
孙建军,郑朝燕,陈珊
申请号:
CN201310331495.1
公开号:
CN103364477A
申请日:
2013.08.02
申请国别(地区):
中国
年份:
2013
代理人:
蔡学俊
摘要:
本发明公开了一种基于电位调控溶出伏安法的痕量金属离子检测方法,先用电化学方法将待测液中金属离子富集沉积到惰性工作电极表面;然后通过电位调控,在短时间内施加一适当电位,使干扰离子预先溶出;最后再用伏安法进行待测金属离子的溶出,并记录溶出伏安曲线。与常规的溶出伏安法相比,使用本发明方法对溶液中痕量金属离子进行检测时,检测限最低可以大幅度降低到1.0×10-9g/L级别。在连续测定时的重现性、稳定性及可靠性也可大大提高。该方法可以应用于海水、地表水、工业废水等水溶液,以及其它非水溶液物质(如食品、电子产品、有机物品等)经过消化后的水溶液中痕量金属离子含量的检测。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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