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エパルレスタット製造法
专利权人:
大日本印刷株式会社
发明人:
小野澤 隆,大山 哲也,鈴木 良信
申请号:
JP2005291607
公开号:
JP4892915B2
申请日:
2005.10.04
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing high-quality epalrestat.SOLUTION: The high-quality epalrestat represented by formula I can be produced by charging a tertiary amine salt of epalrestat into a mixed solution of a solvent with an acid. The epalrestat has a chemical name of 5-[(1Z,2E)-2-Methyl-3-phenylpropenylidene]-4-oxo-2-thioxo-3-thiazolidineaetic acid.COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT【課題】 本発明の目的は高品質のエパルレスタット製造法を提供することにある。【解決手段】 エパルレスタットの三級アミン塩を溶媒と酸の混合液に投入することにより、高品質の下式Iで表されるエパルレスタット(化学名:5-[(1Z,2E)-2-Methyl-3-phenylpropenylidene]-4-oxo-2-thioxo-3-thiazolidineaetic acid)を製造することができる。【化1】【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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