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エパルレスタット製造法
专利权人:
大日本印刷株式会社
发明人:
池田 伸,小野澤 隆,鈴木 良信
申请号:
JP2004288264
公开号:
JP4892821B2
申请日:
2004.09.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of epalrestat of high quality.SOLUTION: Epalrestat (general name), having a chemical name: 5-[(1Z,2E)-2-methyl-3-phenylpropenylidene]-4-oxo-2-thioxo-3-thiazolidineacetic acid represented by formula I, of high quality having a low 2Z-isomer content is manufactured by condensing &alpha-methylcinnamaldehyde with 3-carboxymethylrhodanine and causing a tertiary amine salt to deposit.COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI【課題】 本発明の目的は高品質のエパルレスタット製造法を提供することにある。【解決手段】 α―メチルシンナムアルデヒドと3-カルボキシメチルロダニンを縮合せしめ、三級アミン塩を析出させることで、2Z-異性体の少ない高品質の、下式Iで示される一般名:エパルレスタット(化学名:5-[(1Z,2E)-2-Methyl-3-phenylpropenylidene]-4-oxo-2-thioxo-3-thiazolidineacetic acid)を製造することができる。【化1】【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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