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ANTIBACTERIAL MATERIAL AND METHOD OF FABRICATING AND USING THE SAME
专利权人:
发明人:
LING, YONG CHIEN,凌永健,凌永健,ARCHANA, RAMCHANDRA-DEOKAR,丁 祈,丁 祈,WU, MENG CHIN,吴孟津,吳孟津,LIAO, CHAN HUNG,廖展鸿,廖展鴻,SHIH, PO YUAN,施博元,施博元
申请号:
TW102123168
公开号:
TW201500064A
申请日:
2013.06.28
申请国别(地区):
TW
年份:
2015
代理人:
摘要:
Photothermal antibacterial material RMG is provided in the present invention, where R represents aldehyde, di-aldenhyde or multi-aldehyde, M is magntic material, and G is reduced graphene oxide. A method of synthesizing the abovementioned antibacterial material comprises of three steps. First graphene oxide was synthesized, followed by simultaneous reduction and functionlization with magnetic nanoparticles (MG), and finally an aldehyde is modified on the surface of the magnetic material to yield magnetic reduced graphene oxide functionalized glutaraldehyde (RMG). We utilize the photothermal feature of graphene for antibacterial activity, in addition functionalizing graphene with aldehyde to possess a bacteria capturing capability and with magnetic material to enhance a focusing of light irradiation. The use of microfluidic chip system provides a great environment for this photothermal therapy.本發明提供一種抗菌材料,可吸收一光源進行放熱並具有捕捉細菌的效果,該抗菌材料係由RMG表示,其中G代表石墨烯氧化物,M代表表一磁性材料,R為一醛類化合物、一二醛類化合物或一多醛類化合物。另外,上述抗菌材料的製備方法至少包含下列步驟:首先,製備一石墨烯氧化物,再將磁性材料修飾於還原之石墨烯氧化物上。最後,將醛類化合物修飾於磁性材料與還原之石墨烯氧化物表面。當要使用上述抗菌材料時,可將一含細菌溶液與上述抗菌材料接觸,以光源照射此含細菌溶液與上述抗菌材料,並以磁鐵使抗菌材料與細菌聚集於光源集中處,使用完畢可利用磁鐵回收以進一步重複使用或丟棄。10‧‧‧還原之石墨烯氧化物M‧‧‧磁性材料R‧‧‧醛類化合物
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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