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成膜システム
- 专利权人:
- 東京エレクトロン株式会社
- 发明人:
- 鈴木 泰信,平田 俊治
- 申请号：
- JP20150237518
- 公开号：
- JP2017103415(A)
- 申请日:
- 2015.12.04
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】被加工物上に形成される膜の中心の位置と当該被加工物の中心の位置とのずれを低減又は排除する。【解決手段】一実施形態の成膜システムの成膜装置では、マスクが利用され、被加工物の円形のエッジよりも内側の領域上に膜が形成されることにより、成膜済被加工物が生成される。成膜済被加工物の回転ステージによる回転中にカメラによって取得された三以上の複数の画像から、周方向の異なる複数の箇所それぞれにおける成膜済被加工物のエッジと成膜済被加工物の膜のエッジとの間の複数の幅が求められる。また、複数の幅から、成膜済被加工物の中心の位置に対する成膜済被加工物の膜の中心の位置のずれ量が求められる。このずれ量を用いて、成膜装置に被加工物を搬送する搬送モジュールの搬送位置が補正される。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
