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采用电离辐照去除抗生素抗性基因的方法
专利权人:
清华大学
发明人:
王建龙,初里冰
申请号:
CN201711329143.7
公开号:
CN108046370A
申请日:
2017.12.13
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
肖善强
摘要:
本文公开了一种采用电离辐照去除抗生素抗性基因的方法,其应用电离辐照技术(包括γ射线和电子加速器产生的高能电子束)处理抗生素菌渣以破坏微生物细胞的DNA,从而实现抗性基因的有效去除,并可同时降解残留的抗生素。所述方法高效、适用面广;辐照可以在常温进行,无需或仅需加入少量化学试剂,不会产生二次污染物。所述方法不仅可应用去除抗生素菌渣中的抗性基因,也可应用于去除水体、土壤和污泥中的抗性基因,在环境领域具有广阔的应用前景。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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