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Low pH composition comprising special preservative systems
专利权人:
Unilever N.V.
发明人:
申请号:
DE202015009039
公开号:
DE202015009039U1
申请日:
2015.11.12
申请国别(地区):
DE
年份:
2016
代理人:
摘要:
Reinigungszusammensetzung, umfassend: a) 0,5 bis 35%, bezogen auf das Gewicht der Gesamtzusammensetzung, von einem Tensidsystem, umfassend anionisches Tensid, das Salz von Acylglutamat umfasst, wobei Salz von Acylglutamat mit 50% oder mehr von dem gesamten vorhandenen Tensid vorhanden ist, und wobei das Tensidsystem ferner 0 bis 20%, bezogen auf das Gewicht der Gesamtzusammensetzung, von einem Cotensid umfasst, wobei Cotensid Tenside sind, die nicht anionisch sind, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus nichtionischen, kationischen, amphoteren Tensiden und Mischungen davon; b) 0% bis 30%, bezogen auf das Gewicht der Gesamtzusammensetzung, wasserlösliches oder öllösliches Haut- oder Haarpflegemittel; c) 0,01 bis 1% einer organischen Säure ausgewählt aus der Gruppe von organischen Säuren mit einem pKa zwischen etwa 4,0 und 5,5; und d) Wasser, wobei der pH etwa 5,1 oder darunter ist.A cleaning composition comprising: a) 0.5 to 35%, by weight of the total composition, of a surfactant system comprising anionic surfactant comprising acylglutamate salt, wherein salt of acylglutamate is present at 50% or more of the total surfactant present and wherein the surfactant system further comprises from 0% to 20%, by weight of the total composition, of a cosurfactant, wherein cosurfactants are nonionic surfactants selected from the group consisting of nonionic, cationic, amphoteric surfactants, and mixtures thereof; b) 0% to 30%, based on the weight of the total composition, of water-soluble or oil-soluble skin or hair care product; c) 0.01 to 1% of an organic acid selected from the group of organic acids having a pKa between about 4.0 and 5.5; and d) water, wherein the pH is about 5.1 or below.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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