具有高活性和降低脱靶的SIRNA结构
- 专利权人:
- 日东电工株式会社
- 发明人:
- 尹温平,味吞宪二郎,詹斯·贺柏士,希玛·希纳,郑雪英,纳瑞达·瓦许
- 申请号：
- CN201680072692.8
- 公开号：
- CN108367022A
- 申请日:
- 2016.12.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供用于使用RNA干扰来调节靶基因表达的化合物、组合物和方法。本发明的RNAi结构和分子可用于以高水平的RNAi活性和降低的脱靶作用来调节基因表达或使基因表达沉默。有利的结构包括靶向任意基因的、在种子区中含有一个或多个2’‑脱氧核苷酸的siRNA。所述RNA干扰分子可用于预防或治疗疾病的方法中。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
