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マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラー
- 专利权人:
- カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
- 发明人:
- ハルトムット エンキッシュ
- 申请号：
- JP20160556940
- 公开号：
- JP2017509920(A)
- 申请日:
- 2015.02.19
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本発明は、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーに関する。本発明の一態様によれば、ミラーは、光学有効面を有し、ミラーは、所定の使用波長を有し且つ表面法線に対して６５°以上の入射角で光学有効面に入射する電磁放射線に関して、少なくとも０．５の反射率を有し、ミラーは、第２周期元素及び４ｄ遷移族元素の化合物を含む少なくとも１つの層（１６０、１７０、３２０）を有し、ミラーは、光学有効面の方向で最上部に配置された保護層（４３０、５３０、６３０、７３０）を有し、光学有効面の方向で保護層の下にそれぞれ配置された層（４２０、５１０、６２０、７０５）の材料が、保護層（４３０、５３０、６３０、７３０）の材料よりも低吸収である。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
