多孔干燥基质药用组合物
- 专利权人:
- 株式会社医药处方
- 发明人:
- 石桥贤树,小林胜则,浜本英利
- 申请号：
- CN200780051783.4
- 公开号：
- CN101678115B
- 申请日:
- 2007.12.25
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 公开了口服给药用的新剂型。具体公开的是，包含至少高分子增稠剂和赋形成分的多孔干燥基质制剂，其中(1)高分子增稠剂的含量下限为0.5w/w％，上限为14w/w％，(2)赋形成分的含量下限为30w/w％，上限为80w/w％，(3)空隙率在20％以上，且(4)水分活性在0.55以下，或者水分含量在10w/w％以下。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
