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Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung der Menge oder der Partialdrücke zweier Gase in einem Fluid
专利权人:
HyPower GmbH
发明人:
Ulf Aschenbrenner,Christine Thiele,Marian Gransow,Andreas Strauß,Günter Hohmann,Bernard Krüsemann
申请号:
DE102012110067
公开号:
DE102012110067A1
申请日:
2012.10.22
申请国别(地区):
DE
年份:
2014
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren, mit dem in einem Fluid, z.B. Blut, die Menge oder der Partialdruck eines ersten Gases, z.B. Sauerstoff, das von dem Fluid aufgenommen werden kann, und die Menge oder der Partialdruck eines zweiten Gases, z.B. Kohlendioxid, das sich in dem Fluid anreichern kann, gleichzeitig auf vorgegebene Werte geführt werden können. Zur Einstellung der Mengen/der Partialdrücke der beiden Gase wird das Fluid an der einen Seite (2) mindestens einer permeablen oder semipermeablen Trennschicht (1) und ein Prozessgas an deren anderen Seite (3) vorbeigeführt, wobei das Prozessgas das erste Gas enthält und in der Lage ist, das zweite Gas aufzunehmen. Das Prozessgas wird in einem Gaskreislauf (4) geführt. Im Gaskreislauf (4) wird dem Prozessgas einerseits das erste Gas zugeführt, andererseits wird dem Prozessgas die Menge des zweiten Gases, die über die mindestens eine Trennschicht (1) aus dem Fluid in das Prozessgas gelangt und vom Prozessgas aufgenommen wird, mittels einer Absorbereinheit (8) entzogen.The invention relates to a method with which in a fluid, for example blood, the amount or the partial pressure of a first gas, for example, oxygen, the of the fluid can be received, and the amount or the partial pressure of a second gas, for example, carbon dioxide which is in the fluid, can be achieved without the same time can be guided to a predetermined value. For the adjustment of the amounts of / of the partial pressures of the two gases, the fluid on the one side (2) of at least one permeable or semipermeable separating layer (1) and a process gas at the other side (3), wherein the process gas guided past the first gas and is capable of the second gas. The process gas is in a gas circuit (4). In the gas circuit (4) is fed to the process gas supplied to the one hand, the first gas and, on the other hand, the process gas, the amount of the second gas, which by means of the at least one separating layer (1) from the fluid in the process gas and is
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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