人工爪組成物、人工爪、人工爪の形成方法、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキット
- 专利权人:
- 富士フイルム株式会社
- 发明人:
- 渡邊 ゆきえ,大橋 秀和,阿部 純也
- 申请号：
- JP20150508571
- 公开号：
- JPWO2014157271(A1)
- 申请日:
- 2014.03.26
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 経時安定性に優れ、得られる人工爪の光沢性、除去性、密着性及び耐水性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の形成方法、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットを提供することを目的とする。本発明の人工爪組成物は、（成分Ａ）エチレン性不飽和基と第１級アミノ基及び／又は第２級アミノ基とを有する化合物、並びに、（成分Ｂ）光重合開始剤を含有することを特徴とする。また、成分Ａは特定の化学式（Ｉ）及び／又は（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
