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一种高活性植物栽培营养基质及制造方法
专利权人:
北京市大东流苗圃
发明人:
王春成,曹义明,李志丹
申请号:
CN200410042727.2
公开号:
CN1702061A
申请日:
2004.05.24
申请国别(地区):
中国
年份:
2005
代理人:
周国城
摘要:
本发明涉及农业技术领域,主要用于植物的育苗和栽培,是一种植物育苗和栽培的全营养基质。该营养基质是采用经高温消毒的泥炭、活性物质、营养物质、蛭石、珍珠岩配制而成的混合营养基质,该基质中活性物质是由多种微生物和植物生长调节剂合并聚合而成。该基质含有植物所需的各种营养元素,而且缓慢释放,易于使用。该基质非常适合智能化温室和日光大棚的工厂化育苗和栽培。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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