193nm化学放大光刻胶研究进展

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作   者：

李小欧;  顾雪松;  刘亚栋;  季生象; 

作者机构：

中科院长春应化所黄埔先进材料研究院; 

关键词：

化学放大胶;  光致产酸剂;  碱性添加剂;  溶解抑制剂;  聚合物树脂; 

期刊名称：

应用化学

基金项目：

i s s n：

1000-0518

年卷期：

2021 年 009 期

页   码：

1105-1118

摘   要：

193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚合物树脂、光致产酸剂、添加剂（碱性添加剂、溶解抑制剂等）和溶剂等。本文从光刻胶的成分出发介绍193 nm化学放大胶的研究进展,概述目前应用及研究中出现的代表性193 nm化学放大胶,总结其优缺点及未来可能的发展方向。