高灵敏度铂薄膜热敏电阻器精细刻蚀技术研究

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作   者：

姜国光;  王震;  张洪泉;  王大兴; 

作者机构：

中国电子科技集团公司第四十九研究所;  哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院; 

关键词：

刻蚀技术;  温度系数;  热敏电阻器;  标称阻值;  灵敏度; 

期刊名称：

传感器与微系统

基金项目：

全量程瓦斯检测微系统集成设计及机理研究

i s s n：

1000-9787

年卷期：

2013 年 03 期

页   码：

59-61+64

摘   要：

为了提高铂薄膜热敏电阻器的灵敏度,设计一种标称阻值为5000Ω的超细阻栅结构。通过对高精度干法刻蚀技术研究,解决了传统激光刻蚀和反应离子刻蚀不能加工高质量精细线条的技术问题,实现7μm特征铂电阻条尺寸的加工。测试和分析表明:铂薄膜热敏电阻器在0℃下标称阻值为5 000±1.0Ω,灵敏度为19±0.5Ω/℃,温度系数为(3850±12)×10-6/℃。