InP/GaAs低温键合的新方法
- 作者机构:
- 厦门大学物理系;
- 关键词:
- 磷化铟; 键合强度; 低温键合; 砷化镓; IV特性;
- 期刊名称:
- 功能材料
- 基金项目:
-
GaAs衬底InP-PIN探测器直接键合研究
- i s s n:
- 1001-9731
- 年卷期:
- 2005 年 03 期
- 页 码:
- 416-418
- 摘 要:
- 通过对 InP/GaAs 异质键合实验方法的研究,提出了包括表面活化处理、真空预键合和退火热处理的三步法,在350℃低温下实现了InP/GaAs异质材料的键合。界面电流 电压(I V)特性的研究表明,350℃样品的界面过渡层极薄,电子主要以隧穿方式通过界面,而450℃的扩散使得过渡层增厚,界面电流 电压特性可视为双肖特基二极管的反向串联。同时,对键合样品也进行了拉力测试,实验结果表明 450℃样品的键合强度优于350℃样品。最后,对InP/GaAs异质材料的键合机理进行了探讨。
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