氢化纳米硅薄膜的光声光谱研究

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作   者：

郑以兵;  张淑仪;  胡春年;  朱晓天; 

作者机构：

南京大学声学研究所; 

关键词：

光声光谱，光吸收，纳米硅; 

期刊名称：

南京大学学报(自然科学版)

i s s n：

04657926

年卷期：

1994 年 01 期

页   码：

摘   要：

分析了纳米硅薄膜材料从可见光到近红外范围的光声光谱，并与微晶硅和非晶硅材料进行了对比．纳米硅的光吸收系数比后两者都高（特别是在１．４～１．９ｅＶ之间，高出近一个数量级），其原因是纳米硅薄膜中大量晶粒对光子的散射、晶粒界面缺陷的吸收及载流子吸收的影响，此外，纳米硅光声谱中Ｕｒｂａｃｈ边宽且缓，反映出这种材料很高的无序程度．...