双扩散法制造非穿通NPN型超增益晶体管

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作   者：

徐剑石; 

关键词：

制造;  器件;  电流增益;  偏置电流;  线性集成电路;  放大器;  双扩散法;  差分对;  晶体管;  超增益; 

期刊名称：

电子技术应用

i s s n：

0258-7998

年卷期：

1978 年 004 期

页   码：

30-32

摘   要：

集成超增益工艺是线性集成电路的关键性工艺之一.它对于高精度线性集成电路的发展起着突破性的作用.该文扼要报导了我国在这一重要领域所取得的可喜成果.这些研究成果已在一些有关单位付诸实用,反映较好.然而,超增益器件目前并不是普遍地被人们所认识,也有人对它的重要性和实现的可能性还持有不同的看法.我们本着"百花齐放、百家争鸣"的方针发表此文,希望引起有关人员的重视与讨论.