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激光诱导薄膜损伤的光偏转特性研究

作   者:
杨利红韩锦涛苏俊宏
作者机构:
西安工业大学光电工程学院
关键词:
激光损伤光偏转SiO2薄膜损伤形貌
期刊名称:
西安工业大学学报
基金项目:
介质薄膜的高能激光诱导行为变迁特性研究
i s s n:
1673-9965
年卷期:
2014 年 10 期
页   码:
789-794
摘   要:
为了提高测定光学薄膜的损伤阈值的准确性.文中基于光偏转法识别薄膜损伤的模型,搭建了反射式光偏转实验测试系统,采用1-on-1法对SiO2薄膜进行了损伤测试.研究结果表明:像元尺寸为4μm×4μm,光斑接收屏到辐照点的距离为3 264.6mm,SiO2薄膜辐照点的最小斜率变化量为1.23×10-6.当泵浦光束能量密度小于等于SiO2薄膜的损伤阈值15J·cm-2时,探测光斑的光强分布发生变化;当泵浦光能量密度大于薄膜损伤阈值15J·cm-2时,探测光斑大小和样子发生改变.
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