酸性氯化铜蚀刻液膜电解再生技术评述

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作   者：

钟洪胜;  徐海清;  赵国鹏;  胡耀红;  袁国伟; 

作者机构：

广州鸿葳科技股份有限公司; 

关键词：

离子交换;  再生;  酸性氯化铜蚀刻液;  膜电解; 

期刊名称：

电镀与涂饰

i s s n：

1004-227X

年卷期：

2016 年 11 期

页   码：

590-592

摘   要：

综述了酸性氯化铜蚀刻液膜电解再生技术的发展现状,分析了当前膜电解再生技术的优缺点,探讨了酸性蚀刻液膜电解再生系统的设计,指出了膜电解再生技术的发展趋势。